一、不同光學(xué)膜產(chǎn)品不同涂布方式的選擇
1、具有微結(jié)構(gòu)光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式
（1）棱鏡膜又稱增亮膜（BEF），涂布特點(diǎn)是棱鏡膜涂布厚度為：基材：PET薄膜 38～250μm，涂布方式為輥涂，最好選用三輥涂布。
（2）擴(kuò)散膜（包括上擴(kuò)散和下擴(kuò)散膜），擴(kuò)散膜涂布厚度通常在10~20um ，技術(shù)規(guī)范給出的厚度誤差為±5%，減去基材厚度誤差的1%后，還剩下4%，厚度誤差小（<2um），一般采用刮刀輥涂布，涂布厚度調(diào)節(jié)范圍大，適應(yīng)涂布厚度10~30um，涂料粘度20~100s的各類膠水的涂布。計(jì)量輥涂布有線輥和網(wǎng)紋輥涂布，適應(yīng)涂布厚度在10um左右，粘度低于20s的各類膠水的涂布。最好選用計(jì)量輥涂布和狹縫涂布方式。
2、做平面涂布的光學(xué)膜產(chǎn)品的涂布方式
（1）硬化膜類：LCD抗反射膜AR，LR（抗炫AG），IMD手機(jī)外殼表面抗刮和耐磨層。涂布特點(diǎn)：涂布量小，均勻。硬涂層的厚度在0.5-50μm之間的厚度是正常的，在1-20μm和2-10μm之間是比較合適的，但最好是在3到7μm之間。涂布可選用：微凹版、狹縫涂布、逗號(hào)刮刀等，最好的涂布方式是為了對(duì)膠水的適應(yīng)性廣，同時(shí)配備兩種涂布頭，選用微凹版和狹縫涂布。
二、硬化膜（抗刮膜）高精密涂布機(jī)技術(shù)介紹
應(yīng)用于IMD抗刮膜的特點(diǎn)：具備較好耐刮性，硬度要求高，若以鉛筆硬度表示，一般光學(xué)膜為3H，強(qiáng)化型光學(xué)膜要求達(dá)到4H~5H硬度。
涂布機(jī)設(shè)計(jì)工藝流程按照：
（一）雙工位PET光學(xué)膜基材放卷→自動(dòng)換卷裁切→表面電暈處理→糾偏→牽引及張力分隔→微凹版涂布頭（涂膠量小，粘度低時(shí)使用）→狹縫涂布頭（涂膠量大及粘度高時(shí)使用）→真空吸附輥牽引→21M熱風(fēng)干燥→UV固化→糾偏→與保護(hù)膜復(fù)合→噴碼→收卷 保護(hù)膜放卷→糾偏→
（二）在硬化層涂布完成后再在背面涂布硅膠→與離型膜復(fù)合
1、微凹版涂布技術(shù) Micro Roller System
微凹版涂布技術(shù)適用于溶劑型中低粘度涂布液。
粘度范圍： 10 ~800 cps
涂布量： 5 ~80 g/m2
涂布厚度1~40um 濕涂厚度, 偶爾也可以涂到0.5~80um
涂布基材：PET 1.6~350 um.
線速度： 5 ~ 40 mpm
微凹版涂布可以為使用者提供多種調(diào)整方式。兩支導(dǎo)輥的位置決定了微凹版與基材之間的接觸角度，包角的大小和線接觸可調(diào)。
微凹版涂布法和傳統(tǒng)凹版涂布比較：
微凹版涂布方式是為了滿足均勻平整的小涂布量要求而發(fā)展起來(lái)的新技術(shù)，它簡(jiǎn)單可靠，并且可重復(fù)。
凹版輥表面雕刻有圖案或槽穴，凹版輥兩端安裝高精密軸承，輥面部分浸在供料槽里，一端通過(guò)彈性聯(lián)軸節(jié)與伺服電機(jī)聯(lián)結(jié)，電機(jī)帶動(dòng)凹版輥旋轉(zhuǎn)從液槽中帶起涂料，經(jīng)過(guò)一個(gè)柔性鋼刮刀定量后，凹版輥圖案臺(tái)階上的物料被刮拭干凈，凹槽中保留一定體積的涂布液，當(dāng)帶有定量涂布液的輥面與反向運(yùn)動(dòng)基材接觸后，涂布液在接觸處形成潤(rùn)濕線，涂布液在表面張力作用下潤(rùn)濕基材，凹槽中的涂布液由于粘性拉拽力被取出、進(jìn)而轉(zhuǎn)移到基材表面后潤(rùn)濕、鋪展，實(shí)現(xiàn)均勻薄層涂布。
標(biāo)準(zhǔn)凹版（網(wǎng)紋輥）涂布可分為正涂和逆涂，但都必須使用直徑約與網(wǎng)紋輥大致相同的橡膠壓輥。涂布基材從網(wǎng)紋輥和壓輥之間通過(guò)。經(jīng)常遇到起皺和斷開(kāi)的問(wèn)題，另外壓輥接觸面還會(huì)帶來(lái)一些機(jī)械的、液壓的和壓力方面問(wèn)題，影響涂布質(zhì)量。
小直徑使微凹版與基材之間的接觸區(qū)域也變得很小。不同的直徑明顯會(huì)形成不同的包角。通常情況，比較大的接觸面所帶來(lái)的涂布問(wèn)題遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于接觸面小的。
傳統(tǒng)的凹版涂布，在基材進(jìn)涂布點(diǎn)和出涂布點(diǎn)上存在涂布液堆積，這些滴液會(huì)造成涂布循環(huán)紊亂。傳統(tǒng)網(wǎng)紋輥直徑越大干擾滴液也越大，對(duì)涂布造成的不良影響越大。加上壓輥，壓輥可能出現(xiàn)傾斜，或者其他機(jī)械問(wèn)題，涂布質(zhì)量就更難以保證。
微凹版由于沒(méi)有壓輥就基本消除了因壓輥造成的不良影響，干擾滴液的問(wèn)題也因?yàn)檩伒闹睆叫《鞠朦c(diǎn)和出點(diǎn)上的滴液量很少很穩(wěn)定。
彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng)
當(dāng)物理系統(tǒng)同時(shí)牽涉到流體流動(dòng)造成的流體摩擦力與可變形固體所產(chǎn)生的彈性應(yīng)力。并且此變形固體成為流體流動(dòng)的邊界，這種相互作用的系統(tǒng)稱之為彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng) (elastohydrodynamic systems, EHD)。
微凹版涂布方式中基材相當(dāng)于可變形固體，涂布液則是其中的流體。微凹版涂布方式能夠?qū)崿F(xiàn)高度均勻性的薄層涂布就是由于微凹版涂布方式應(yīng)用了彈性流體動(dòng)力接觸系統(tǒng)，其涂布間隙不再受背輥加工精度影響，涂布間隙主要由基材張力決定，間隙可以隨基材表面的改變而變化，實(shí)現(xiàn)輪廓型涂布。
常用概念包括：
（1）潤(rùn)濕線、（2）包角、（3）上游分界線（upstream）和下游分界線（downstream）、（4）速度比s、（5）轉(zhuǎn)移率。
微凹版涂布彎月面
厚度公式
N. Kapur等在凹版涂布工藝研究中發(fā)現(xiàn)在其他條件不變的情況下：
H=1.34R（μv/σ）2/3
其中：H—涂層濕厚；R—涂珠彎月面半徑；μ—粘度；v—流體速度；（σ）表面張力。Blok 與van Rossum(1953)將薄膜以180°包覆一滾輪且使用油作潤(rùn)滑劑，膜與滾輪之間的間隙為H=0.43R（6μv/N）2/3。
其中：R—滾輪半徑；N—薄膜張力；μ—粘度；v—滾輪轉(zhuǎn)速（線速度）。這個(gè)公式雖然沒(méi)有直接提供液膜厚度，但是H作為薄膜與滾輪之間的間隙是涂層厚度的重要影響要素，我們通過(guò)這一試驗(yàn)驗(yàn)證涂布張力是涂膜厚度的重要影響因素。綜合以上2個(gè)公式來(lái)看我們不難得出以下結(jié)論：h∝R（μv/σN）2/3
其中：h—涂層濕厚度；R—凹版輥半徑；N—薄膜張力；μ—粘度；v—滾輪轉(zhuǎn)速（線速度）；σ—涂布液表面張力。這個(gè)公式全面概括了微凹版涂布厚度的影響因素，以及各因素對(duì)厚度的影響關(guān)系，對(duì)試驗(yàn)、生產(chǎn)具有指導(dǎo)意義。
微凹版涂布工藝
微凹版涂布技術(shù)在國(guó)外已經(jīng)是比較成熟的涂布技術(shù)，其操作控制基本采用自動(dòng)化電氣控制，一般的控制過(guò)程包括：刮刀進(jìn)、退，刮刀壓下、抬起，懸臂壓下、抬起，kiss輥壓下、抬起，涂布輥速（或速度比s）調(diào)解。涂布頭上的手動(dòng)機(jī)械調(diào)節(jié)部分包括：刮刀角度、壓力，包角大小調(diào)整，這些機(jī)械調(diào)整一旦確定后一般不會(huì)改變，只有在涂層出現(xiàn)表觀弊病時(shí)才會(huì)做微量調(diào)整。另外，拖動(dòng)控制部分與其他方式的控制基本相同，只是提出的控制精度會(huì)更高些，這與產(chǎn)品的性能要求相關(guān)，一般微凹版涂布的產(chǎn)品均勻性要求都很高。
涂層厚度控制
微凹版涂布不屬于精確預(yù)定量涂布，有別于坡流、落簾和條縫，其涂布量要根據(jù)物料和涂布工藝條件來(lái)確定。
首先，微凹版涂布的涂布量主要由凹版輥的網(wǎng)孔容積決定。凹版輥?zhàn)陨韺?duì)涂布液轉(zhuǎn)移率的影響要素有：網(wǎng)紋輥線數(shù)、開(kāi)口與網(wǎng)墻比、網(wǎng)穴形狀、網(wǎng)穴深度、網(wǎng)穴表面光潔度、網(wǎng)線角度，這些都直接跟凹版輥制作有關(guān)。
物料從孔穴里取出率與車速與凹版輥線、速度的比率S的關(guān)系。
涂布液從網(wǎng)孔里取出百分?jǐn)?shù)與比率S關(guān)系
可以看出在S比例一定的情況下（1～1.5之間），適當(dāng)增加包角也可以增加涂層厚度，但這種調(diào)整都是微量的，并且包角過(guò)大易產(chǎn)生渦流，從而捕獲空氣或粒子造成拉絲弊病。
涂層厚度與比率S關(guān)系
h∝R（μv/σN）2/3這個(gè)公式全面概括了微凹版涂布厚度的影響因素，以及各因素對(duì)厚度的影響關(guān)系，其他條件一定，涂層厚度與粘度成正比，與表面張力成反比。式中的μv/σ恰好是毛細(xì)準(zhǔn)數(shù)的度量，因此隨毛細(xì)準(zhǔn)數(shù)增長(zhǎng)與涂層厚度增加。式中的涂布張力N的增加則會(huì)減小涂布間隙，最終減薄涂層，因此在實(shí)際生產(chǎn)與試驗(yàn)過(guò)程中要不斷摸索每根涂布輥針對(duì)不同特性物料與涂布工藝參數(shù)的涂層厚度，積累經(jīng)驗(yàn)，以便在較短的時(shí)間內(nèi)選擇滿足厚度要求的凹版輥。
微凹涂布法中的涂布條件，整個(gè)凹版輥表面的網(wǎng)線數(shù)在50到800線每英寸都是可以的，在100到300線每英寸就很合適。網(wǎng)線的雕刻深度在1到600μm都是可以的，在5到200μm之間更合適。微凹版輥的旋轉(zhuǎn)速度在3到800轉(zhuǎn)每分之間都是可以的，在5到200轉(zhuǎn)每分之間最好。基材的傳輸速度在0.5到100米每分鐘之間都是可以的，在1到50米每分鐘之間最好。更多涂布機(jī)信息請(qǐng)?jiān)L問(wèn)：http://ninefy.cn/
